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新創(chuàng )納公司擁有非常完備的拋光液驗證設備，在拋光液的開(kāi)發(fā)研究中起著(zhù)至關(guān)重要的作用，這些設備能夠滿(mǎn)足各種尺寸、材質(zhì)襯底材料的拋光液制成驗證?！?/div>
恭喜上海新安納(浙江新創(chuàng )納)電子科技有限公司再次入圍全球CMP拋光液材料供應商名錄…
化學(xué)機械拋光通常稱(chēng)為?CMP (Chemical Mechanical Polishing)，在整個(gè)拋光過(guò)程中，機械拋光和化學(xué)腐蝕同時(shí)起作用，拋光作用部分是機械研磨的，部分是化學(xué)腐蝕的?；瘜W(xué)作用腐蝕晶圓表面，然后通過(guò)拋光設備向被拋元件施加機械壓力，機械研磨帶走腐蝕的表面材料，從而提高材料去除率?！?/div>
浙江新創(chuàng )納電子科技有限公司獲得海寧市年度創(chuàng )新創(chuàng )業(yè)團隊表彰，這是繼去年獲得浙江省優(yōu)秀創(chuàng )業(yè)團隊后又一次獲得海寧市政府的表彰?！?/div>
CMP全稱(chēng)為Chemical Mechanical Polishing，化學(xué)機械拋光，是半導體晶片表面加工的關(guān)鍵技術(shù)之一?！?/div>
「上海新安納」浙江新創(chuàng )納電子科技有限公司研發(fā)生產(chǎn)的集成電路拋光液，經(jīng)歷了多代升級，目前已經(jīng)用于多家半導體公司?！?/div>
「上海新安納」浙江新創(chuàng )納是一家專(zhuān)注于研發(fā)高端硅溶膠、CMP拋光液及其生產(chǎn)和銷(xiāo)售公司，在CMP拋光液和拋光技術(shù)方面已申請并獲得發(fā)明專(zhuān)利兩百余項，廣泛應用于半導體、拋光等行業(yè)，年產(chǎn)能一萬(wàn)多噸?！?/div>
「上海新安納」浙江新創(chuàng )納電子科技有限公司開(kāi)發(fā)了系列碳化硅晶圓（SiC Wafer）拋光液，既開(kāi)發(fā)了碳化硅粗拋液也開(kāi)發(fā)了碳化硅精拋液，主要應用在不同尺寸高純半絕緣體4H-SiC，N型4H-SiC等晶圓拋光?！?/div>
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