什么是CMP化學(xué)機械拋光
所屬分類(lèi)：行業(yè)資訊 發(fā)布時(shí)間：2021-03-23
化學(xué)機械拋光通常稱(chēng)為 CMP (Chemical Mechanical Polishing)。這個(gè)過(guò)程是晶圓表面用含有磨料的CMP漿料進(jìn)行化學(xué)機械拋光，這些拋光液一般含有活性化學(xué)制劑。
為什么叫化學(xué)機械拋光？因為整個(gè)拋光過(guò)程中，機械拋光和化學(xué)腐蝕同時(shí)起作用，拋光作用部分是機械研磨的，部分是化學(xué)腐蝕的?；瘜W(xué)作用腐蝕晶圓表面，然后通過(guò)拋光設備向被拋元件施加機械壓力，機械研磨帶走腐蝕的表面材料，從而提高材料去除率。根據被拋光材料的特性，新創(chuàng )納會(huì )量身定做各種cmp拋光液。
化學(xué)機械拋光應用
新創(chuàng )納生產(chǎn)的CMP化學(xué)機械拋光液用途廣泛，專(zhuān)為精度要求高、表面質(zhì)量至關(guān)重要的拋光應用而設計。
我們CMP拋光液可根據客戶(hù)不同的拋光墊、拋光機等定制，個(gè)性化的滿(mǎn)足您的特殊需求。
可使用 CMP 拋光的具體應用領(lǐng)域主要包括：
硅片拋光Cmp
金屬表面拋光，包括不銹鋼拋光、鋁板鋁合金拋光
氮氧化硅、氧化物的拋光
藍寶石SA、氮化鎵GaN和碳化硅SiC晶圓的拋光
LED芯片的背面減薄拋光
氧化鋁拋光液
化學(xué)機械拋光解決方案
新創(chuàng )納的化學(xué)機械拋光液可為最大直徑達 300mm 的晶圓提供納米級材料去除功能，并可用于目前設備制造過(guò)程中使用的各種晶圓/基板材料。
它們達到CMP化學(xué)機械拋光的行業(yè)控制和去除標準，并產(chǎn)生較好的表面質(zhì)量（0/0 scratch dig），通過(guò)工藝改進(jìn)，還可以達到Ra亞納米水平。
我們的CMP化學(xué)機械拋光的進(jìn)一步功能和優(yōu)勢包括：
拋光過(guò)程中的工藝調節
處理超硬材料和軟材料
適合各種晶圓尺寸
可用的高向下負載設置
后壓力設置，以獲得更好的結果
根據實(shí)時(shí)監控的拋光效果調節拋光工藝
