隨著(zhù)社會(huì )飛速發(fā)展，前沿制造業(yè)也迎來(lái)了新的挑戰，在原有基礎上，如何應對嚴格要求做達到更加精細的水準，是所有行業(yè)都面臨的一個(gè)共同問(wèn)題，今天帶大家了解一下在前沿制造行業(yè)生產(chǎn)表面平坦化過(guò)程中常用到的新型材料–CMP拋光液。

CMP拋光液的成分及功能是什么 ?

CMP拋光液即化學(xué)機械拋光液，以氧化硅拋光液為主，其主要組成成分為PH值調節劑，氧化劑，分散劑和研磨顆粒等。根據所需拋光材料的性質(zhì)，選擇不同PH調節劑以及相應配方。金屬材料常選用酸性PH調節劑，效果更佳。而堿性?huà)伖庖簞t在非金屬材料拋光上表現更加突出。在CMP拋光液中添加氧化劑，可以通過(guò)化學(xué)反應在拋光物體表面形成氧化膜，便于后續的機械擦拭。分散劑將CMP拋光液中的研磨顆粒均勻分散開(kāi)，以此來(lái)增強其穩定性。研磨顆?？梢赃M(jìn)行磨粒去除行為作用于加工工件表面，達到去除表面材料的目的。其磨粒能力取決于研磨顆粒的硬度，形狀以及顆粒直徑的大小以及研磨顆粒在拋光液中的質(zhì)量濃度的多少等。

CMP拋光液的用途有哪些?

CMP拋光液在實(shí)際應用中用途廣泛，多應用于精密儀器的制造過(guò)程。如在LED芯片的制作過(guò)程中，芯片襯底材料藍寶石具有極高的硬度，使用普通的磨料通常會(huì )使其表面產(chǎn)生或大或小的劃痕，效果不佳。而CMP拋光液可通過(guò)“軟磨硬”的原理，對藍寶石表面進(jìn)行精密拋光，效果很好。此外，CMP拋光液還常用于半導體工作中，隨著(zhù)半導體工業(yè)的飛速發(fā)展，對于材料的拋光程度的要求更加嚴格，傳統的拋光技術(shù)只能進(jìn)行平面化拋光，而CMP拋光液可以將拋光細節處理的更加完美，不留死角。

選擇新創(chuàng )納CMP拋光液的理由?

浙江新創(chuàng )納是一家專(zhuān)注于研發(fā)高端硅溶膠、CMP拋光液及其生產(chǎn)和銷(xiāo)售公司，在CMP拋光液和拋光技術(shù)方面已申請并獲得發(fā)明專(zhuān)利兩百余項，廣泛應用于半導體、拋光等行業(yè)，年產(chǎn)能一萬(wàn)多噸。負責CMP拋光液項目的研發(fā)的團隊是一支富有創(chuàng )新精神、高學(xué)歷、高素質(zhì)的團隊，品質(zhì)值得信賴(lài)。

以上就是對CMP拋光液的介紹，希望對拿您有所幫助。